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        日本富士Fujifilm單光束紅外氣體分析儀

        簡要描述:

        日本富士Fujifilm單光束紅外氣體分析儀
        氣壓幹擾補償(選配)根據內置
        標準功能輸出信號保持,手動/自動量程切換
        選配功能自動校正,自動校正遠程啟動,遠程輸出保持,量程識別接點輸出,
        上下限警報輸出,O2換算值輸出,O2換算平均值輸出,平均值複位接點輸出,
        CO濃度峰值警報接點輸出

        更新時間:2026-06-16
        訪問量:3586

        日本富士Fujifilm單光束紅外氣體分析儀

        產品描述:

        本產品能針對大氣環境監測(CO)或空氣分離設備的不純物低濃度氣體(CO,CO2)的濃度,

        進行連續測量的單光束紅外氣體分析儀。 采用取樣切換方式可連續測量低濃度(0~5ppm)氣體。

        高穩定性:零點漂移±0.5%FS/周。

        安裝於19英寸機櫃,重量約為9kg,小巧輕盈。

        能連續測量低濃度氣體。

        內置磁氧分析儀或電化學氧分析儀(選配)。

        內置氣壓幹擾補償、RS-485通信、自動校正、警報輸出、O2換算等多種功能(選配)。

        測量部件結構簡單,保養容易。

        日本富士Fujifilm單光束紅外氣體分析儀

        般規格:

        測量原理

        NO,SO2,CO,CO2,CH4:非分散型紅外線吸收法(單光束)

        O2:電化學(內置)或磁力式(內置)或氧化鋯式(弊公司ZFK7 外置)

        測量成分及測量範圍

        NO:0~10ppm···100ppm

        SO2:0~10ppm···100ppm

        CO2:0~5ppm···50ppm

        CO:0~5ppm···50ppm

        O2(內置電化學式):0~10vol%···25vol%

        O2(內置磁力式):0~5vol%···100vol%

        O2(外置氧化鋯式):0~5vol%···25vol%

        測量量程 1組分多2量程

        重複性 ±0.5%FS以內

        線性 ±1%FS以內

        零點漂移 ±0.5%FS/周

        滿量程漂移 ±2%FS/周

        響應時間(90%以內) 30秒以內(氣體切換時間點不同,消耗時間會隨之變化)

        模擬輸出信號 DC4~20mA或DC0~1V

        測量值顯示 帶背景燈LCD(日語,英語或中文:根據)

        各成分的瞬時值,O2換算瞬時值,O2換算平均值,O2平均值

        量程切換 通過按鍵操作可進行手動量程切換、自動量程切換,外部接點輸入可進行遠程切換(選配)。

        外部接點輸入(選配) 電壓輸入接點(供壓DC12~24V,大電流15mA)

        遠程量程切換,自動校正遠程啟動,遠程輸出保持,平均值複位

        接點輸出(選配) 1c繼電器接點(接點容量 DC24V/1A 阻性負載)

        儀表異常,校正異常,量程識別,自動校正中,自動校正用電磁閥驅動,

        上下限報警,CO濃度峰值報警

        通信功能(選配) RS-485(Modbus)(9針D-sub輸出) 半雙工位串行,起止同步式

        被測氣體流量監測器 有

        氣體出入口尺寸 Rc1/4 或 NPT1/4內螺紋

        吹掃氣體流量 1L/min(根據需要)

        參比氣體 需要(幹燥N2或幹燥Air)

        周邊溫度濕度 -20~60℃ 90%以下(無結露)

        電源電壓 AC100V~240V 50/60Hz

        額定功率 約100VA

        外形尺寸 133(H)×483(W)×382(D)mm

        重量 約10kg

        適用 CE

        被測氣體條件 流量 1.0L / min ±0.2L / min

        溫度 0 ~ 50℃

        壓力 10kPa以下

        粉塵 0.3μm以下的顆粒:100μg / Nm3以下

        氣霧 無

        水分 不能超過2℃飽和(被測氣體、參比氣體相同)

        腐蝕性成分 HCL 1ppm以下

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